一、 设备概况:
A. 设备名称:有机去胶清洗台
B. 设备型号:KZIC-T-OGSW-05B
C. 整机尺寸:约1700mm(L)×1300mm(W)×1850mm(H);
D. 操作台面高度:900±20mm
E. 被清洗工件规格:8 英寸圆片,25片/篮(233mm*215mm*220mm);
F. 产能:1 篮/批,25 片/批;
G. 节拍 :0~99min 可调;
H. 设备类型:半自动;
二、 设备构造:
A. 骨架:国产优质SUS304 骨架外包;
B. 外壳:2mm 厚SUS304 镜面板折弯焊接而成;
C. 台面:2mm 厚SUS304 镜面板
D. 去胶清洗槽:2mm 厚SUS316L镜面板折弯焊接加电解抛光;
E. QDR 槽:德国进口10mm PP-N 板热熔焊接而成;
F. 管路:管路位于机台下/后部,管道采用SUS316 和PFA 管路相互配合使用;
G. 排风消防:根据流体学原理设计位于机台后上部,并配有导流和消防自动关闭装置--如发现
着火,机台会采集CO2 自动灭火器的信号,自动关闭风量调节口蝶阀,有效阻止火灾蔓延;
H. 工作照明:机台顶部配防腐防爆照明;
I. DI/N2 GUN:设备配美国-TEQCOM PTFE N2 Gun 和DIW Gun 各1 把,置于工作设备两侧;
J. 电器部分:采用触摸屏+PLC 控制,电器元器件均采用Schneider&Omron; |